クログワイに強い
問題雑草・クログワイに強い､除草成分｢アルテア｣を配合！
塊茎を減らし、翌年の発生をしっかり防ぎます。
問題雑草と言われるクログワイ。土中で分株しながら増殖し、翌年の発生源となる塊茎をいくつも形成します。この生態により、塊茎がある限りは発生条件次第で毎年発生を繰り返します。これがクログワイ防除が難しいとされる理由です。 つまり地上部を枯らすだけでは完全に防除したことになりません。塊茎を減らしていくことが重要です。
有効成分「アルテア」はクログワイに対する高い殺草力により、クログワイの地上部はもちろん、地下茎の伸長と分株も抑制します。さらに塊茎形成も抑制、翌年の発生量を減らすことも可能です。
多年生雑草（クログワイ・シズイ・コウキヤガラなど）に卓効の除草成分「アルテア」を配合した除草剤シリーズを、あなたの水田除草に是非お役立てください。
クログワイに強い理由-1
地上部はもちろん、地下茎の伸長と分株も抑制します。
◎クログワイの地下茎と分株に対する効果
2012年 日産化学研究所温室内試験 処理時のクログワイ茎長5～12cm、56日後観察
上の写真は、5～12cmに生育したクログワイに薬剤を処理し、地下茎と分株の様子を観察した温室内試験の結果です（日産化学社内試験）。
薬剤処理56日後の観察では、アルテア剤を処理したクログワイは地上部が完全に枯殺、さらに地下茎の成長や分株も抑えられることが分かります。
クログワイに強い理由-2
塊茎形成も抑制し、翌年の発生も減らします。
◎クログワイの塊茎形成の比較 (10〜20cm深での塊茎）
2012年 日産化学圃場試験（栃木県宇都宮市） 試験規模:5㎡ 6/14処理、10/2採掘、1㎡×30cm深
注）クログワイは土中深い所まで広範囲で塊茎をつくります。この写真は、一部の深さについての調査結果を示したものです。
上の写真は、実際の圃場に薬剤を処理し、約4か月後に水田の土壌を掘り起こし、各区画内のクログワイ塊茎数を数えた試験の結果です（日産化学社内試験）。
ご覧の通り、アルテア剤を散布した区画から採取されたクログワイの塊茎は極めて少なく、このことから、アルテアはクログワイの塊茎形成を強力に抑制することが分かります。